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地域産学官共同拠点整備事業

No.7-033 研究開発用マグネトロンスパッタリング(クリーンルーム利用料込)

No.7-033 研究開発用マグネトロンスパッタリング(クリーンルーム利用料込)
機器の概要 磁界を発生させて不活性ガスをイオン化し、高速でスパッタリングする装置。
備品の用途 電極材料の作製
仕様 基板サイズ:100 mm□
メーカー名 芝浦メカトロニクス
型式 CFS-4EP-LL
購入年度 H22年度
担当 ものづくり室
機器使用料(消費税込) 料金表をご覧ください。
設備写真
参考サイト
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